> 数据图表如何了解琼斯矩阵 vs 穆勒矩阵穆勒矩阵信息量测实例2023-2-0由于光学技术可以实现对晶圆快速、批量的检测，得以满足晶圆厂商对于量产过程的检测要求，目前应用范围十分广泛。在量测领域包括关键尺寸量测设备（CD）、晶圆介质薄膜量测设备、套刻精度量测设备、三维形貌量测设备等在缺陷检测领域主要包括纳米图形晶圆缺陷检测设备、无图形晶圆缺陷检测设备、掩膜板缺陷检测设备等。根据 VLSI Research 和QY Research 的报告，2020 年全球半 导体检测和量测设备市场中，应用光学检测技术、电子束检测技术及 X 光量测 技术的设备市场份额占比分别为 75.2%、18.7%及 2.2%。光学量测设备整体技术同源性较强，其中光学膜厚量测设备、非成像关键尺寸量测设备（OCD）通常基于椭圆偏振技术。过去的椭圆偏振仪普遍采用琼斯矩阵，该方法可利用偏振分析器测量偏振态，但琼斯矩阵测量一次仅可得到 4 个变量值，测量面较窄，也就导致适用材料种类较少同时当光学元件或样品具有去偏振效应的时候，琼斯矩阵无法准确表达这种去偏振效应，为了能对具有去偏振效应的系统进行计算，便升级引入了斯托克斯矢量来对光进行描述。而最新的椭偏仪常采用穆勒矩阵的方式接受信息，该方法则基于斯托克斯偏振理论，可利用矩阵描述器件的偏振特性及偏振光的传输，进而推导出期间的偏振相关损耗。穆勒矩阵椭偏仪是一种利用测量参数的关联性而集成数据处理方式，一次测量可以获得 16 个参数值，所以测量面更宽，可适用于各类各向同性各向异性微纳薄膜、纳米光栅结构等测量对象的几何厚度、几何关键尺寸等形貌信息以及材料光学特性的信息提取。光源、椭偏仪、光学系统是光学量测仪器的主体组成部分，其质量好坏可直接影响设备的性能。从光源的角度来看，光强的稳定性可影响设备可用性、寿命等指标，光源中所配置的稀有气体并不是越纯越好椭偏仪以及光学系统的设计也会对设备的稳定性、性能产生影响。信达证券综合其他
