> 数据图表谁知道新凯来 CVD 设备应用场景2025-3-1PECVD，代号长白山 1 号，12 英寸介质薄膜沉积设备，具备 4-Station 领先架构，全面覆盖逻辑及存储介质薄膜多种工艺，支持向未来先进节点演进。产品特点：1）高均匀流热场腔室设计保障成膜均匀性2）高精度射频系统搭配 Sequential Process工艺模式保障成膜一致性3）单腔 4-Station 先进架构搭配智能调度算法保障生产稳定高效4）宽范围工艺位可调、宽 RF系统匹配能力，满足多种制程工艺需求。Metal CVD，代号长白山 3 号，12 英寸高保形性选择性金属薄膜沉积设备，全面覆盖逻辑和存储金属化学气相沉积应用场景，具备创新架构和领先性能，多种工艺高度集成，支持未来向先进节点演进。产品特点：1）创新架构提供工大工艺窗口，确保卓越性能与质量2）稳定可靠晶座、防 Arcing 和零死区混气设计，保证工艺一致性、长期稳定3）智能调度算法与毫秒级控制系统实现稳定生产和高效产出。平安证券综合其他
