> 数据图表想关注一下光刻示意图2025-4-2光刻的核心工具包括光掩膜、光刻机和光刻胶。光刻工艺是指利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩（掩模版）对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而将光罩上得图形复印到晶圆上，使晶圆具有电子线路图的作用。光刻的核心工具包括光掩膜（（如同芯片的蓝图，上面印有每一层结构的图案）、光刻机（（像一把精确的画笔，能够引导光线在光刻胶上刻画出图案）和光刻胶（一种特殊的感光材料，通过光刻过程在光刻胶上形成图案，进而构建出三维结构）。国盛证券综合其他
