> 数据图表请问一下光刻光源世代演变2025-4-2年 月 日gszqdatemark最高分辨率降低至 KrF（110nm）和 ArF（65nm），采用 ArF 光源的第四代光刻机是目前应用最广泛的一代。随着工艺节点发展到 7nm 及以下，20 世纪初期产业联合研发第五代 EUV 光刻机，使用 13.5nm 的极紫外光，比 DUV 短 14 倍以上。国盛证券综合其他
