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如何才能OPC处理前后的图形及其曝光结果

2025-4-2
如何才能OPC处理前后的图形及其曝光结果
逆光刻技术(ILT):以晶圆上要实现的图形为目标,反演计算出掩膜版上所需要的图形。不仅对设计图形修正,还能根据目标图形反演计算掩膜图形,通过复杂数学计算得到理想掩膜图形,曝光时可提供较高成像对比度。 偏振照明:通过起偏器可以将自然光转换为偏振光,起偏器只允许特定方向振动的光通过,而吸收或阻挡其他方向振动的光。检偏器则用于检测光的偏振状态,通过偏振照明,以减少反射眩光,提高对比度。