> 数据图表你知道二元掩模版VS相移掩模版2025-4-2 逆光刻技术（ILT）：以晶圆上要实现的图形为目标，反演计算出掩膜版上所需要的图形。不仅对设计图形修正，还能根据目标图形反演计算掩膜图形，通过复杂数学计算得到理想掩膜图形，曝光时可提供较高成像对比度。 偏振照明：通过起偏器可以将自然光转换为偏振光，起偏器只允许特定方向振动的光通过，而吸收或阻挡其他方向振动的光。检偏器则用于检测光的偏振状态，通过偏振照明，以减少反射眩光，提高对比度。国盛证券综合其他
