> 数据图表如何了解ASML DUV产品矩阵2025-4-2套刻通常指光刻过程中每一层图形都需要精确转移到硅片面上的正确位置，使其相对于上一层图形的位置误差在容限范围之内。对于投影光刻机而言，不同层之间的误差主要取决于系统的对准精度，因此对准系统的在线测量精度是影响套刻性能的关键因素。一般来说，套刻误差只允许在光刻分辨力的 1315 范围以内，而对准误差只允许在套刻误差的 13 以内。国盛证券综合其他
