> 数据图表想关注一下ASML公司的双工件台工作流程2025-4-2双工作台：高效曝光，提升产能核心部件。 双工作台光刻机是在同一设备中集成两个独立的工作台，每个工作台都具备完整的光刻曝光系统和自动化处理装置。通过这种设计，光刻机可以同时处理两个硅片或掩模，从而显著提高生产效率和设备利用率。 双工作台系统包含有掩膜台、硅片台和控制系统三个子系统。硅片台系统用于承载待曝光硅片，包括粗动台、微动台、线缆台等，粗动台负责完成大行程、微米级精度运动，微动台补偿粗动台的运动误差，最终实现纳米级运动精度掩膜台用于承载掩膜版和接收控制系统信号，结构同硅片台类似控制系统可发送和接收信号指令，以调控各子系统。国盛证券综合其他
