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咨询大家工件台位置测量原理示意图(干涉仪VS光栅尺)

2025-4-2
咨询大家工件台位置测量原理示意图(干涉仪VS光栅尺)
测量系统:工件台精准定位之基。 超精密位移测量系统是光刻机不可或缺的关键分系统之一,其直接影响着工件台位置测量精度、工件台定位精度,是影响光刻机的套刻精度的重要因素。目前应用于光刻机的超精密位移测量系统主要有双频激光干涉仪和平面光栅测量系统两种。