如何了解光刻机的对准系统示意图

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2025-4-2

对准系统：套刻精度的核心保障光刻作为集成电路制造中的核心工艺，其对准精度直接决定了芯片的性能与良率。集成电路特征尺寸的不断缩小，从微米级迈入纳米级时代，随着光刻技术向 10nm 及以下工艺节点的延伸，光刻工艺对套刻精度提出了更高的要求，相应的对准精度的要求已经达到亚纳米量级。