> 数据图表谁知道步进重复式投影光刻机曝光示意图2025-4-2扫描投影到步进重复投影，提高掩膜硅片缩放比例，降低掩膜制作难度。扫描投影光刻机采用的是 11 的缩放比例，掩模与硅片尺寸相同。随着芯片关键尺寸的不断缩小，由于掩模上的图形必须保持等比例缩小，使得掩模的加工制作越来越困难。而且扫描过程中微振动引入的图形失真等问题同样不容忽视。步进重复式投影光刻机采用缩小倍率的投影物镜，解决了这些问题，得到了业界的关注。1978 年，GCA 公司（Geophysical Corporation of America，美国）推出了世界上首台商用步进重复式投影光刻机 DSW4800。硅片上包含若干个曝光场，每次曝光一个场。一个场曝光完成后，工件台带动硅片步进到下一个场进行曝光，直至完成整个硅片的曝光。曝光过程中，工件台与掩模台保持静止，减小了振动引起的图形失真。此外，由于步进重复式投影光刻机采用了缩小倍率（41、51 或 101）的投影物镜系统，掩模设计制造的难度和成本显著降低。 增大投影物镜数值孔径，减小曝光波长，步进重复式光刻机分辨率不断提高。1978 年GCA 公司推出的 DSW4800 光刻机采用汞灯的 g 线（436nm）作为曝光波长，投影物镜的缩小倍率为 10 倍，数值孔径为 0.28，视场为 10mm10mm，分辨率为 1.4m。而 20世纪 90 年代采用 248nm 的 KrF 曝光光源，分辨率达到 250nm。为满足集成电路的发展对曝光视场的需求，1978 年到 1993 年，步进重复式投影光刻机的投影物镜视场也在逐渐增大，从 10mm10mm 增大到 22mm22mm。目前步进重复光刻机主要应用于0.25m 以上工艺，主要采用 g 线和 i 线光源，在非关键层以及封装等领域仍广泛使用。国盛证券综合其他
