> 数据图表如何解释步进扫描路径示意图2025-4-2年 月 日gszqdatemark分辨率，需要增大数值孔径。芯片尺寸的增大则要求光刻机在实现高分辨率的同时增大曝光场。对于步进重复式光刻机，增大曝光场需要增大投影物镜视场，设计与制造同时具有大视场和大数值孔径的投影物镜难度非常大。 步进重复投影到步进扫描投影，较小视场实现更大曝光场，减小投影物镜研发难度。1990 年，SVGL 公司（Silicon Valley Group Lithography，美国）推出了世界上首台步进扫描投影光刻机 Micrascan I，在投影物镜视场大小一定的情况下，通过扫描实现更大的曝光场。相比步进重复式投影光刻机，步进扫描投影光刻机可以在大数值孔径下，以较小的视场实现更大的曝光场。明显降低了对投影物镜视场大小的要求，减小了投影物镜的研发难度。曝光过程中，曝光狭缝位置保持不变，在曝光当前场时，承载硅片的工件台和承载掩模的掩模台反向同步运动，实现整个场的扫描曝光。当前场曝光结束后，工件台步进到下一个曝光场重复扫描曝光过程，直至完成整个硅片的曝光。国盛证券综合其他
