> 数据图表如何解释上海微电子光刻机产品矩阵2025-4-2上海微电子 2002 年在张江高科技园区正式成立，2009 年 12 月首台先进封装光刻机产品 SSB50010A 交付用户，2016 年 6 月首台暨国内首台前道扫描光刻机交付用户，2017年 4 月公司承担的国家 02 重大科技专项任务“浸没光刻机关键技术预研项目”通过了国家正式验收，2017 年 10 月公司承担的 02 重大科技专项“90nm 光刻机样机研制”任务通过了 02 专项实施管理办公室组织的专家组现场测试，2018 年 3 月 90nm 光刻机项目通过正式验收，公司作为国内光刻机整机制造厂商，引领国内光刻机制造发展。 公司光刻机产品可用于平板显示、先进封装、新型化合物半导体器件、MEMS 和集成电路前道芯片制造环节，其中 SSX600 系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足 IC 前道制造 90nm、110nm、280nm 关键层和非关键层的光刻工艺需求，可用于 8 寸产线或 12 寸产线。国盛证券综合其他
