> 数据图表请问一下匀胶铬版光掩模制作流程2025-5-1光刻技术从早期的接触接近式光刻、光学投影光刻、扫描光刻，演变为先进的浸没式光刻和 EUV 光刻，同时掩模版也经历了发展和技术的创新。接触式光刻中，乳胶超微粒干版光掩模是由分散在以明胶作为载体的卤化银乳剂感光主体，经均匀涂布在清洁平整的光掩模玻璃基板上制成的，具有敏感度高可见光、i 线、g 线、分辨率高、对比度大等特点。采用超微粒乳胶干版投片，接触式光刻的光刻精度可达到 1um。由于直接接触，光刻胶会污染掩模版，造成磨损累积缺陷，影响使用寿命，因此接触式光刻逐渐被投影光刻所替代。在投影光刻中，匀胶铬版光掩模最为常见，这是在平整的光掩模基板玻璃上通过蒸发或溅射沉积上厚约 0.1um 的铬-氧化铬膜而形成镀铬基板，再涂敷一层光刻胶制成的匀胶铬版。匀胶铬版的制作工艺相对复杂、技术难度大、成本高，但它具有分辨率高、缺陷低、耐磨、易清洁处理、使用寿命长的优势，适用于制作高精度、超微细图形，覆盖了 g 线、i 线、KrF248nm以及 ArF193nm等曝光波长。天风证券综合其他
