咨询下各位通过移相效果提高对比度

> 数据图表

2025-5-1

1）二元掩模（Binary Photomasks）二元掩模是指仅通过单纯的遮光膜图案形成的掩模。作为仅具有单纯透过遮掩光线功能的掩模，主要用于形成粗细超过曝光波长的图案。对于比前端半间距 32nm 更细的油浸曝光，与半色调移相掩模相比，二元掩模具备优势。