咨询下各位不同制程中的 Mask 数量

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2025-5-1

同时，掩模版的平均成本也在上升。根据半导体产业纵横，台积电从 10nm 到 5nm，随着EUV 光刻技术的应用，掩模使用数量有所减少，而 5nm 与 10nm 制程中掩模使用数量相差不多。在这样掩模数量基本持平的情况下，更先进的制程工艺使得掩模总成本提升，能侧面反映出掩模平均成本在不断升高。