持续投入突破技术壁垒，研发验证进展显著。公司技术研发主要沿下游行业技术演进开展研发活动，通过深度挖掘客户中远期需求以及行业可能存在的技术演进方向，以研发带动产品销售。未来三至五年内公司将加快实现半导体掩模版技术与产品突破，扩大高世代 TFT掩模版、高精度 AMOLED 掩模版的生产规模及市场占有率，同时逐步实现中高端半导体掩模版量产化及相关掩模版制造先进技术积累。公司正在从事的主要研发项目包括高精度G8.5 灰阶掩模版研发、9801550TFTArray 掩模版 CD 精度提升研发、多项目混版 Ma sk 制作技术研究与工艺开发、半导体用 PSM 产品开发、掩模版及光学膜自动化搬运装置开发和子版精度优化提升项目。目前多个项目已进入项目实施阶段。
