> 数据图表一起讨论下3.4 超精密光学元件为光刻机核心零部件，极高壁垒
2025-4-03.4 超精密光学元件为光刻机核心零部件，极高壁垒&价值量赛道光刻机三大核心部件为光源系统、曝光系统（照明+投影物镜）和双工件台系统。1）光源系统：提供曝光能量，典型的有KrF、ArF、EUV等光源；2）曝光系统：其中照明系统负责优化光束，实现分辨率增强；投影物镜系统为光刻机“心脏”，将穿过掩膜版产生的一阶衍射光收集且缩小聚焦到晶圆上，性能高低直接决定光刻机分辨率和套刻精度。主要由各类超精密光学元件组成，典型的投影物镜包含近30块镜片，60个光学表面，最大直径达0.8m。3）双工件台：曝光同时进行测量矫正，提高生产效率。光刻机单机价值量极高，根据我们测算，2025年国内光学类半导体设备零部件市场规模约150亿元。相对中低端的I-line光刻机售价在2000-5000万元，K-line售价在5000万-1亿元；而浸没式ArFi售价大幅提升到5000万-1亿美元左右，EUV则超过1亿美元。图：光刻机三大核心结构示意图资料来源：ASML，华西证券研究所表：ASML各产品参数和价格情况型号 光源 波长分辨率(nm)3600D3400C2100i2050i2000i1980Di14708601460K1060K860N860MEUVEUVArFiArFiArFiArFiArFKrFArFKrFKrFKrF400Li-line13.513.51931931931932482481932482482483651313-≤38≤38≤38≤57≤110≤65≤80≤110≤110≤350套刻精度生产效率(nm)1.11.51.31.522.547.5557.5720(wph)≥160≥170295≥275≥275≥275≥300≥330≥205≥260≥240≥240≥230价格1亿美元+5000万-1亿美元5000万-1亿元2000-5000万元40 
