> 数据图表想关注一下光刻机整体结构图2025-4-4光刻机是芯片制造的核心设备。光刻工艺是芯片制造流程中技术难度最大、成本最高、周期最长的环节，光刻技术水平直接决定了芯片的最小线宽，定义半导体器件的特征尺寸，直接决定芯片的制程水平和性能水平。先进技术节点的芯片制造需要 60-90 步光刻工艺，光刻成本占比约为 30%，耗费时间占比约为 40-50%，光刻机能够将芯片图案投影到硅片上，实现微小结构的制造。光刻机是光刻技术的关键装备，其构成主要包括光刻光源、均匀照明系统、投影物镜系统、机械及控制系统包括工件台、掩膜台、硅片传输系统等。国盛证券综合其他
