> 数据图表咨询大家清洗单元工作原理2025-4-4CMP 设备主要由晶圆传输单元、抛光单元和清洗单元三大主要模块组成。晶圆传输单元主要由前端模组、晶圆传输手等部件组成。其中，前端模组负责与晶圆搬运系统对接，将晶圆搬运至机台内进行加工。晶圆传输手负责晶圆在各单元内部及不同加工工位之间的传输。抛光单元利用化学腐蚀与机械研磨的协同配合，通过夹持晶圆的研磨头和研磨垫之间的相对运动来实现晶圆表面平坦化。利用研磨垫和晶圆之间滴入研磨液的化学成分产生的腐蚀作用，及研磨液颗粒产生的机械摩擦力去除晶圆表面的多余材料，实现晶圆全局平坦化。清洗单元一般包含兆声清洗模组、刷洗模组及干燥模组等，兆声清洗模组利用兆声波能量及化学液的腐蚀作用实现大颗粒的去除刷洗模组利用清洗化学品的腐蚀和机械刷洗双重作用去除晶圆表面的强附着力颗粒，并用超纯水冲洗残留的沾污干燥模组通过高速旋转产生的离心力，异丙醇溶剂产生的马兰戈尼效应去除晶圆表面的水渍，实现晶圆干燥。国盛证券综合其他
