> 数据图表如何了解2018-2024归母净利润及同比增速2025-4-4片制程向更先进工艺的方向发展、NAND 垂直化发展，刻蚀设备、薄膜沉积设备等需求比例进一步加大，同时 MiniMicro LED 和第三代功率器件终端市场渗透提升，MOCVD 需求有望提升。公司的等离子体刻蚀设备已批量应用在国内外一线客户从 65 纳米到 14 纳米、7 纳米和 5 纳米及更先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线，并覆盖了多种先进工艺芯片加的工制造和封装环节。同时，公司注重研发创新，开发的 CCP、ICP、薄膜沉积设备、深硅刻蚀机、MOCVD 等五类设备均达到国际先进水平。 风险提示：下游需求不及预期，市场竞争加剧，产品进展不及预期。 1.9.3 拓荆科技：深耕国产薄膜沉积设备领域，产品覆盖度及出货量快速提升营收高速增长。拓荆科技 24Q1-Q3 实现营收 22.8 亿元，yoy33.8%，实现归母净利润2.7 亿元，yoy0.1%，毛利率 43.6%。前三季度公司营收稳步提升，主要系持续高强度研发投入，新产品及新工艺机台在客户端验证取得了突破性进展，且公司多款基于新型设备平台（PF-300M 和 PF-300T Plus）及新型反应腔（Supra-D）开发的工艺设备实现收入确认。公司 24 年前三季度研发投入达 4.81 亿元，yoy35.73%。国盛证券综合其他
