> 数据图表如何了解光刻技术及光刻材料的发展2025-4-4光刻胶是光刻工艺核心材料。光刻材料主要包括 SOC（SpinOnCarbon）、ARC（Anti-reflectiveCoating）、光刻胶、TopCoating、稀释剂、冲洗液、显影液等，系光刻工艺中重要材料之一，决定晶圆工艺图形精密程度与产品良率。光刻胶是一种在紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X 射线等光照或辐射作用下，溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是光刻工艺中的核心材料。经过旋涂、前烘、曝光、后烘和显影等一系列工艺步骤，光刻胶能够将光掩模板上的微纳图形转移到胶膜上，并通过后续工艺实现目标材料的图案化和阵列化。国盛证券综合其他
