> 数据图表各位网友请教一下2022年光刻胶分应用占比2025-4-4半导体用光刻胶占光刻胶比重达 22%。根据显影原理的不同，光刻胶可分为负性胶和正性胶。显影后，正性光刻胶未曝光的部分将被保留下来，负性光刻胶则在显影后保留下来，即经曝光后形成不可溶物质的是负性胶，对某些溶剂不可溶，经曝光后变成可溶的为正性胶，正性光刻胶为主流。从应用场景来看，根据研精毕智 2022 年数据，光刻胶可分为半导体光刻胶（22%）、面板光刻胶（28%）和 PCB 光刻胶（23%）。国盛证券综合其他
