> 数据图表谁知道双重图案会增加密度2025-7-1在其左右两侧生成一对间隔层。首先使用标准的光刻工艺制作半密集线条。通过化学气相沉淀（CVD）将间隔层材料（例如 SiN）均地沉积到光刻胶上。随后，采用各向异性刻蚀去除间隔层材料。除了附着在牺牲层图形侧上的材料之外，其余的间隔材料都被刻蚀清除。最后，选择性地清除光刻胶材料，用余下的间隔层作为掩模对基底进行刻蚀。华金证券综合其他
