> 数据图表如何看待浸没式和干法 ArF 光刻的主要物理和光学差异2025-7-1（2）数值孔径（NA）浸没式光刻提供更大焦深并支持高 NA 成像像方浸液、使用反射元件与增加非球面，突破非浸没投影光刻物镜理论极限。非浸没投影光刻物镜理论极限 NA 为 0.95，如想进一步增大 NA 则需要采用像方浸液、使用反射元件和增加非球面等措施。当 NA 超过 0.75 时，系统需要采用非球面当 NA 超过 0.95 时，系统需采用像方浸液技术当 NA 超过 1.1 时，系统需加入反射镜组成折反式结构。在 193nm 工作波段采用像方水浸液技术可使光刻物镜 NA 达到 1.35。华金证券综合其他
