> 数据图表我想了解一下光刻机部件示意图
2025-7-2光刻机（Photolithography machine）是芯片制造中用于将电路图形转移到硅片上的核心设备。 光刻工艺发明于 1796 年，其中所需设计的图案主要使用光掩模（或掩模版）转移到基板上。具体而言，光刻机利用光源通过带有图形的掩膜版，对涂覆光刻胶的硅片进行曝光，过程中胶层产生化学反应，令掩膜图案“印刷”在硅片上。光刻机主要由光源系统、照明系统、投影物镜系统、掩模台和晶圆控制系统构成。其中光源系统和投影物镜等光学系统是光刻机最核心的部分，决定了设备的分辨率和性能。 
