> 数据图表请问一下通用光学光刻工艺步骤简化框图
2025-7-2光刻工艺通过一系列精密步骤在晶圆上形成图案。首先在晶圆上沉积无机底部抗反射涂层BARC以减少光线反射，后经清洁和涂底漆增强附着力，然后旋转涂有机抗反射涂层并高温烘烤以稳定涂层并抑制反射接着在涂层上旋转涂光刻胶并软烘烤减少溶剂，涂覆顶部抗反射涂层并再次烘烤以降低界面反射之后晶圆与光掩模对齐，紫外线透过掩模照射光刻胶形成图案，曝光后烘烤增强反应，显影去除曝光区域的光刻胶形成初步图案，再通过硬化烘烤稳定图案并透过显微镜检查质量，最后去除抗反射涂层并通过蚀刻将图案转移到晶圆上，同时剥离剩余涂层。 
