> 数据图表如何解释锂金属负极制备方法示意图2025-7-4（2）气相沉积法：气相沉积法包括电子束蒸发法EB-PVD、脉冲激光沉积法（PLD）、磁控溅射沉积法以及蒸发镀法。EB-PVD以及PLD可以制备超薄锂层，但是生产成本高，具有规模化量产局限性，磁控溅射沉积法沉积效率高，但与锂金属特性适配性差，锂靶材制备困难。当前行业主要方法为蒸发镀法，主要通过加热熔锂，气相沉积于基材上，其沉积速率快，厚度精确，成本相对较低，具备量产潜力，但需要在惰性气体环境中生产，且在超薄层沉积均匀性上具有挑战。（3）液相法：液相法利用锂金属熔点低的特性，熔融锂金属后喷涂刮涂至集流体基材上，再经过二次辊压定型。液相法可以制备超薄锂层，且理论成本最低，但是熔融锂氧化风险高，厚度均匀性难控制，量产设备仍然有待开发。万联证券综合其他
