> 数据图表一起讨论下投影式光刻（左）vs 直写式光刻（右）2025-8-1据杭州网报道，浙江大学首台国产商业电子束光刻机“羲之”已进入应用测试阶段，精度比肩国际主流设备，实现国产纳米级光刻机新篇章。该设备由浙江大学余杭量子研究院自主研发，能够以 0.6 纳米精度在硅基板上实现线宽 8 纳米光刻。电子束光刻（e-beam lithography，EBL）属于直接写入式光刻，其不同于 DUV（深紫外光刻）及 EUV（极紫外光刻）的掩模版式光刻，电子束光刻机通过电子束轰击电子抗蚀剂（光刻胶），将设计图形转移至目标材料上。但由于电子束光刻曝光效率不敌投影式光刻，前者是通过电子束作连续逐点光刻图案转移，而后者则通过掩模版进行较大区域的光刻。金元证券工业制造
