> 数据图表你知道1.2 掩模版是光刻工艺中的关键耗材2025-8-21.2 掩模版是光刻工艺中的关键耗材Ø 掩模版的作用是将承载的电路图形通过曝光的方式转移到硅晶圆等基体材料上，从而实现集成电路的批量化生产。Ø 半导体器件和结构是通过生产工艺一层一层累计叠加形成的，芯片设计版图通常由十几层到数十层图案组成，芯片制造最关键的工序是将每层掩模版上的图案通过多次光刻工艺精准地转移到晶圆上。半导体光刻工艺需要一整套相互之间能准确套准的、具有特定图形的“光复印”掩模版，其功能类似于传统相机的“底片”。掩模版是半导体制造工艺中最关键的材料之一，其品质直接关系到最终产品的质量与良率。掩模版在半导体生产中的应用半导体多层光刻原理图资料来源：龙图光罩招股书，华金证券研究所请仔细阅读在本报告尾部的重要法律声明5华金证券综合其他
