> 数据图表如何了解1.5 光刻技术不断发展以制造出更小线宽的集成电路2025-8-21.5 光刻技术不断发展以制造出更小线宽的集成电路Ø 为了更加高效地制造出具有更小线宽的高端集成电路，光刻技术和光刻机也经历了众多技术上的重大革新，分辨率的不断提高和产率的不断提升，成为光刻机不断演进的主线。Ø 瑞利判据（Raleigh criterion）是促进光刻机不断向前发展的重要理论依据，根据瑞利判据=k1∙ λ,主要可以通过减小光源波长λ、降低工艺因子k1、提升投影物镜数值孔径NA这3种方式实现。光刻机工作原理图国际上光刻机发展历程资料来源：电子发烧友、《集成电路装备光刻机发展前沿与未来挑战》胡楚雄等，华金证券研究所请仔细阅读在本报告尾部的重要法律声明8华金证券综合其他
