> 数据图表如何了解1.7 光刻方式不同对掩模版要求不同2025-8-21.7 光刻方式不同对掩模版要求不同Ø 光刻方式通常根据曝光方式分为接触式光刻、接近式光刻、投影式光刻三类。其中，对于曝光面积较大、分辨率要求相对较低的平板显示类产品，通常使用接近式光刻的方法，能够实现掩模图案与基底图案的1:1复制；对于曝光面积相对较小、精度与分辨率要求极为苛刻的半导体类产品，通常使用投影式光刻方法，能够实现掩模图案与基底图案的4:1或5:1复制。光刻方式根据曝光方式分类不同光刻方式的优缺点资料来源：龙图光罩招股书、江苏沃泽光电科技有限公司官网，华金证券研究所请仔细阅读在本报告尾部的重要法律声明10华金证券综合其他
