> 数据图表如何了解1.8 掩模版研发是一个不断探索光学物理极限的过程2025-8-21.8 掩模版研发是一个不断探索光学物理极限的过程Ø 半导体生产工艺通常采用投影式光刻方法，在投影式光刻中，激光透过掩模版后，经过投影物镜成像到晶圆的光刻胶表面，通过掩模版对光线的遮挡或透过功能，实现掩模图案向晶圆线路图的图形转移。半导体掩模版的技术演进的过程，正是不断解决极限情况下光的干涉与衍射现象、克服物理极限的过程。投影式光刻原理图资料来源：龙图光罩招股书，华金证券研究所请仔细阅读在本报告尾部的重要法律声明11华金证券综合其他
