> 数据图表谁能回答光的衍射造成的图像失真及OPC效果对比情况2025-8-2光的衍射造成的图像失真及OPC效果对比情况1.14 OPC从250nm节点被引入光刻工艺中Ø 光学邻近校正（OPC）就是使用计算方法对掩模版上的图形做修正，使得投影到光刻胶上的图形尽量符合设计要求。OPC是一种通过调整光刻掩模上透光区域图形的拓扑结构，或者在掩模上添加细小的亚分辨辅助图形，使得在光刻胶中的成像结果尽量接近掩模图形的技术。OPC技术也是一种通过改变掩模透射光的振幅，进而对光刻系统成像质量的下降进行补偿的一种技术。光学邻近效应矫正技术通常分为两大类: 基于规则的技术和基于模型的技术Ø 光学邻近效应校正首先于250nm技术节点被引入光刻工艺中。基于模型的光学邻近效应校正从90nm技术节点开始被广泛应用。它使用光学模型和光刻胶化学反应模型来计算出曝光后的图形。该方法的关键是建立精确的光刻模型，包括光学模型和光刻胶模型，为达到较高的计算速度，这些模型都采用近似模型，其中包含一系列参数，需要实验数据来进行拟合，以保证模型的精确度。基于模型的光学邻近效应修正流程演示资料来源：百度百科、电子发烧友、龙图光罩招股书，华金证券研究所请仔细阅读在本报告尾部的重要法律声明17华金证券综合其他
