> 数据图表谁知道3.2 CAM本质是图形数据的转换与处理
2025-8-23.2 CAM本质是图形数据的转换与处理Ø CAM版图处理是掩模版生产制造的重要环节，是芯片设计版图到掩模版图案的图像转移起点，本质是图形数据的转换与处理。半导体掩模版厂商需要获取芯片设计公司提供的芯片设计版图和晶圆制造厂商提供的制版要求，根据两者信息转换成可以被掩模版光刻机识别的掩模版图形，这一制造转换过程需要计算机辅助进行，即计算机辅助制造（CAM）。在CAM环节需要对掩模版图形进行二次加工（OPC），通过图形补偿来抵消图形偏差，使得曝光后的图形满足设计要求。CAM版图处理是掩模版制造的起点，这一工序对掩模版的制造至关重要，如果CAM版图处理无法满足客户需求或出现设计偏差则直接导致掩模版制造失败。CAM流程图CAM版图处理技术难点技术难点非标数据识别与转换难点图形补偿难点对位标记难点具体内容芯片设计版图数据格式多种多样，差异较大，存在大量非标设计。非标准化的版图数据无法直接转换成掩模版光刻图形数据，需要掩模版制造商拥有大量的版图处理经验及较强的数据处理能力。下游半导体芯片光刻特征尺寸小、图形密度高，在半导体掩模版线缝水平提升过程中，由于光学效应的影响，下游晶圆制造时出现图形失真的情况，因此在高精度半导体掩模版制作中，需要在版图设计时利用 OPC（即光学邻近效应修正）等技术加入图形补偿，提升晶圆制造精度。国内晶圆制造厂商光刻设备高度依赖二手市场供给，种类多样，性能参数与对位信息不全，导致掩模版对位标记困难。如果不能生成精准的对位标记，芯片的多层处理工艺便无法套合叠加，以至于无法进行曝光制作。资料来源：龙图光罩招股书，华金证券研究所请仔细阅读在本报告尾部的重要法律声明36 
