> 数据图表如何才能3.3 光刻是掩模版制造的核心工艺2025-8-23.3 光刻是掩模版制造的核心工艺Ø 光刻作为掩模版制造的核心工艺，对于掩模版产品的品质影响极其重要。光刻环节直接决定了最小线/缝宽、边缘粗糙度、关键尺寸均匀性（CD uniformity）、关键尺寸精度均值偏差（CD Mean-to-Target）等图案指标；同时光刻机平台定位的精度也直接决定了掩模版位置精度（Registration）、套刻精度（Overlay）等指标。Ø 光刻环节主要包括曝光、显影、刻蚀和清洗，光刻是将CAM版图数据转换成激光直写系统控制数据，由计算机控制高精度激光束扫描，利用激光对涂有光刻胶的掩模基板按照设计的图档进行激光直写，从而完成了集成电路信息从CAM设计版图到掩模版图形的转移过程。掩模版光刻环节原理图资料来源：路维光电招股书、华金证券研究所请仔细阅读在本报告尾部的重要法律声明37华金证券综合其他
