> 数据图表各位网友请教一下3.1 光刻机研发难度大，零部件海外垄断
2025-9-13.1 光刻机研发难度大，零部件海外垄断n 光刻机厂商研发费用率高：24年全球前五大半导体设备厂商的平均研发费用率为12%，其中ASML研发费用率为15%，高于其他设备厂商。n 光刻机零部件供应商遍布全球，核心零部件来自德国和美国：代表光刻机最高端技术的EUV光刻机里面有10万多个零部件，全球超过5000家供应商。整个光刻机中，荷兰腔体和英国真空占32%，美国光源占27%，德国光学系统占14%，日本的材料占27%。图： 全球前五大半导体设备厂商研发费用率（单位：%）图：2021年EUV光刻机零部件占比（单位：%）16.0%14.0%12.0%10.0%8.0%6.0%4.0%2.0%0.0%24年研发费用率（%）德国光学系统14%日本的材料27%AMATASMLTokyo electronLamKLA来源：WIND，2021数博会，中泰证券研究所荷兰腔体和英国真空32%美国光源27%19 
