> 数据图表谁能回答3.1 光刻机由多个系统组成2025-9-13.1 光刻机由多个系统组成n 光刻机是一种投影曝光系统：光刻机由光源、照明系统、物镜、工件台等部件组装而成。在芯片制作中，光刻机会投射光束，穿过印有图案的光掩膜版及光学镜片，将线路图曝光在带有光感涂层的硅晶圆上。通过蚀刻曝光或未受曝光的部分来形成沟槽，再进行沉积、蚀刻等工艺形成线路。n 光刻机的三大核心系统：光源系统、光学镜头、双工作台系统。图：光刻机总体结构表：光刻机核心系统介绍激光投影物镜系统操作控制单元照明系统光源晶圆传输系统扫描晶圆台减震系统掩膜台核心系统照明系统 提供高均匀性的照明光场并精确控制曝光剂量作用投影物镜系统工作台/掩膜台系统将掩膜图形以一定的缩小比例成像到硅片上，直接影响光刻机的分辨率、套刻精度、良率工作台负责承载传输硅片，掩膜台用于承载掩膜版自动对准系统 控制套刻误差，保证两次光刻精准对齐调焦调平测量系统测量硅片表面相对于投影物镜的高度和转角,保证硅片当前场在曝光过程中始终处于投影物镜的焦深范围内掩膜传输系统 负责运输掩膜版，控制掩膜版整个运动流程硅片传输系统框架/减振/环境控制系统整机控制系统承载硅片整个运动过程，实现硅片以高精度和高效率从片盒传送至工件台的功能将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界振动干扰，并维持稳定的温度、压力光刻机的“大脑”和“神经”，将各分系统有机地连接起来并使其进行有序工作来源：《Photolithography technology in electronic fabrication》，中泰证券研究所22中泰证券工业制造
