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咨询下各位2023-2035年DRAM技术演进

2025-9-2
咨询下各位2023-2035年DRAM技术演进
从技术对比视角来看,传统 DRAM 单元阵列采用源极、栅极、漏极(含电容器)的横向排列方式,而 4F结构则通过自上而下的垂直堆叠重新定义单元形态。在空间占用上,传统结构需依托位线占据 3 个单位空间,4F结构则仅需 2 个单位空间,这使得在相同面积内可集成的存储单元数量显著提升。当前,该技术路线已成为行业重要研发方向,三星正在开发的垂直通道晶体管(VCT)DRAM,以及 SK 海力士推进的垂直栅极(VG)DRAM,均以 4F结构为核心技术架构。