> 数据图表谁知道PVD 磁控溅射膜示意图2025-9-6技术壁垒。目前主流制备方法包括：1）物理气相沉积（PVD）与化学气相沉积（CVD）2）溅射与蒸镀技术3）拉伸取向工艺4）功能涂布与复合技术5）纳米技术与 3D 打印等。新型材料的开发及其与现有工艺的融合依旧存在堵点。因此，技术突破需要不断加浙商证券综合其他
