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想问下各位网友高介电常数会提升电容(C)从而增加传输延迟 Low-k 材料可直接减少金属线间的电容耦合

2025-12-3
想问下各位网友高介电常数会提升电容(C)从而增加传输延迟 Low-k 材料可直接减少金属线间的电容耦合
Low-k 材料降低电容(C),RC 时间常数同步优化,可推动芯片速度提升 20%-30%。