> 数据图表

请问一下先进封装技术演进-2.5D

2026-1-1
请问一下先进封装技术演进-2.5D
先进封装技术演进-2.5D➢ 在具体工艺上,2.5D封装可以分为chip first及chip middle/chip last。Chip-First 工艺将芯片先行放置在载板(胶带或玻璃载片)上,然后整体进行模压成型,形成重构晶圆,通过研磨暴露芯片表面并构建重分布层(RDL),完成铜凸块(C4)制备,然后去载板与基板互连。通常Chip First适用于少量芯片(约2–3片)、较小封装尺寸(<1×光罩)和低层数RDL(2~3层)➢ Chip-Last 工艺先在载板上直接构建Fan-Out RDL基板(通常在玻璃或柔性材料上形成铜凸柱和RDL),然后将芯片倒装键合到RDL微凸点上并灌注环氧填充(Underfill)保护;之后对整个模块进行模压覆盖;最后去载板,在RDL背面制备C4凸块与PCB或基板连接。Chip Last 适合更大尺寸、多芯片的封装(如ASIC与多片HBM),可叠加多层RDL实现更高密度的互连性能。➢ Chip First的优势在于技术成熟,成本相对低,封装整体厚度可以很薄,但是模压封装后难以补救RDL缺陷,RDL良率问题可能会导致已封装芯片报废,并且芯片模压过程容易发生移位和翘曲问题,限制线宽和层数扩展。而Chip Last可以在RDL制程前先检查良率,不会损失KGD芯片,且更容易实现低L/S,键合后填充Underfill作为缓冲,但是对芯片与RDL对准精度要求高,成本较高➢ 图表:chip first vs chip last芯片上制备Cu铜柱凸点在载板上完成排布,随后用模封料(EMC)或树脂进行填充与固化,并减薄,形成重构晶圆重构后的表面制作介电层+金属布线C4焊球(球栅)+ 切割载板载板芯片上制备Cu铜柱凸点先在载板(carrier)上制作RDL结构与硅桥,相当于先把“扇出布线基底”做好。将带Cu柱的芯片翻转,与载板上的RDL焊盘进行对准并键合(热压/回流/ACF等,取决于方案),随后进行底部填充C4焊球(球栅)+ 切割载板载板数据来源:《Large-size multi-layered fan-out RDL multi-chip module packaging》,金元证券研究所整理