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如何才能1.1 受益于AI PCB硬件升级,mSAP工艺关注度提高

2026-6-4
如何才能1.1 受益于AI PCB硬件升级,mSAP工艺关注度提高
1.1 受益于AI PCB硬件升级,mSAP工艺关注度提高◆ CoWoP工艺要求最底层的PCB达到类载板级别的线宽线距。伴随封装技术的持续推进,CoWoP工艺(Chip-On-Wafer-On-PCB)提上产业化日程。相比于CoWoS工艺(Chip-On-Wafer-On-Substrate),CoWoP工艺省略了封装基板,因此对最底层的PCB提出了接近载板化的布线要求。线宽线距的缩小倒逼PCB厂使用mSAP工艺进行布线。◆ NPO工艺需要更精细的线路以提供更高的带宽。NPO(近封装光学)虽然将光引擎从交换机外的可插拔模块中搬到Switch ASIC旁,但实质上光引擎与ASIC仍共存于系统级PCB上,信号传输依靠PCB走线。伴随信号传输速率的不断提高,奈奎斯特频率越高/趋肤效应加剧,需要更高的铜表面质量。另外带宽需求的提高带动更密集的SerDes走线要求,需要进一步缩小线宽线距。需要使用mSAP工艺。图:CoWoP工艺要求PCB达到类载板级别图:近封装光学对PCB走线的要求提高类型结构层次线宽线距工艺CoWoSCoWoP芯片-硅基中介层-ABF载芯片-硅基中介层-类载板级板-PCB别PCB5-8μm(CoWoS-L)8-12μm(CoWoS-R)10-15μm(CoWoS-S)ABF-SAP法PCB-Tenting法15-20μm(CoWoP类载板)类载板级别PCB-mSAP法数据来源:智能计算芯世界,光芯,东吴证券研究所5