> 数据图表请问一下气体分配盘在 CVD 腔体中的位置2026-8-0气体分配盘（Showerhead）是半导体制造设备中的核心部件，贯穿于清洗、刻蚀、沉积等关键工艺环节，直接影响半导体工艺精度和产品质量。其核心功能是将各类工艺气体均匀喷射至反应腔室内的晶圆表面，确保晶圆不同区域能均匀接触工艺气体，以此保障沉积膜层的均匀性与一致性，进而提升生产效率与产品质量。在化学气相沉积（CVD）等制程中，气体分配盘还承担着混合不同前驱体气体的作用，引导气体在衬底表面发生化学反应，生成硅氧化物、多晶硅、金属氧化物等目标薄膜。此外，气体分配盘还有控制反应环境、形成均匀电场等作用。根据 QYResearch 报告，2023 年全球半导体用金属喷淋头市场销售额已达 10.99 亿美元，预计 2030 年将增长至 17.96 亿美元，期间年复合增长率达 7.1%，市场规模随半导体产业升级持续扩容。公司凭借在半导体超高纯金属溅射靶材领域积累的深厚技术与工艺经验，推出的气体分配盘产品已实现快速市场放量。财通证券工业制造
