想问下各位网友中科仪罗茨干泵产品在清洁、中等和苛刻工艺均可使用

> 数据图表

2026-9-2

向半导体中等工艺流程，如刻蚀、离子注入等H 系列主要面向半导体苛刻工艺流程，如薄膜沉积等，也可应用于光伏等泛半导体领域的工艺流程，如管式 PECVD 等。中科仪研制的