> 数据图表请问一下电子特气：含氟特气增量大，NF3/WF6国产突破较快2026-9-1电子特气：含氟特气增量大，NF3/WF6国产突破较快◆ 含氟气体贡献主要价值量，高选择性刻蚀气弹性更大。电子特气包括含氟、含硅、掺杂、氢化物及光刻气等，SEMI预计2026年全球晶圆制造用电子气体市场约68亿美元；NF3、WF6、C4F6等为主要含氟品种。先进逻辑和3D NAND持续增加刻蚀深宽比及工艺复杂度，C4F6等高选择性氟碳刻蚀气受先进刻蚀步骤增加带动最明显，WF6亦受先进存储及金属沉积需求拉动。◆ 高纯度与痕量杂质控制构成壁垒，海外龙头仍主导高端市场。 电子特气核心在于合成纯化、混配、痕量杂质检测及稳定供气，先进制程对纯度和批次稳定性要求进一步提高。2025年按收入计，林德、液化空气、日本酸素控股等四大国际巨头合计占全球电子特气市场份额我们预计超过60%，在高端品种及全球供气体系仍具优势。◆ 2025年国产化率约25%，NF3/WF6突破较快，高端刻蚀与光刻气仍有空间。2026年中船特气已在NF3、WF6形成规模优势，超高纯NF3已供应境外3nm制程并开展2nm验证；华特气体在稀混光刻气、氟碳类取得突破，金宏气体超纯氨、N2O等已批量供应主流晶圆厂。我们预计2025年国内电子特气国产化率约25%，高端光刻气、先进刻蚀气及部分稀有气体仍是后续替代重点。图：全球电子特气主要企业图：电子特气分类类别典型应用主要产品含氟气体 刻蚀、清洗、CVD沉积NF₃、六氟化钨、六氟丁二烯等含硅气体外延生长、CVD沉积硅烷、乙硅烷、二氯硅烷等氢化物掺杂、外延、离子注入磷烷、砷烷、乙硼烷、硫化氢等非氟卤化物刻蚀氯气、三氯化硼、氯化氢等硼化物掺杂、离子注入乙硼烷、三氯化硼、三氟化硼等稀有气体载气、保护气、光刻、等离子体激发氖气、氪气、氙气等其他功能气体沉积、刻蚀辅助氨气、一氧化碳、乙烯等数据来源：深企投，华经产业研究院，华特气体，东吴证券研究所企业林德集团液化空气空气化工大阳日酸华特气体金宏气体中船特气国家德国法国美国日本中国中国中国电子特气情况全球工业气体龙头，覆盖半导体全产业链的高纯电子气体供应氧气、氮气、氩气、氢气、一氧化碳、二氧化碳等大宗及特种气体、制气设备、安全装置等主要产品为大宗气体与稀有气体三菱化学控股，日本最大的工业气体和空分设备制造商稀混光刻气、氟碳类气体等；下游客户包括长江存储、中芯国际等超纯氨、高纯氧化亚氮等；客户包括中芯国际、海力士、积塔等三氟化氮、六氟化钨稳定供应台积电、美光、海力士等16东吴证券综合其他
