> 数据图表想问下各位网友公司产品布局2026-10-2 暗场检测收集缺陷产生的散射光，减少正常表面直接反射光进入检测通道，使颗粒、划伤等异常在较暗背景上更突出，适用于快速缺陷筛查与工艺监控。公司暗场纳米图形检测设备采用深紫外激光暗场扫描与成像探测，实现复杂图形晶圆表面缺陷的快速检测与分类。暗场纳米图形晶圆缺陷检测设备自 2025 年末以来，持续通过多家国内头部逻辑、存储及先进封装客户验证并实现销售2026 年上半年已成为订单结构中贡献比重最大产品。2）量测设备方面，公司形成了“光学电子束X 光”三大核心技术路线的一站式良率管理解决方案：光学量测设备覆盖三维形貌、介质膜厚、金属膜厚、套刻精度、光学关键尺寸及晶圆平整度等应用，主要用于晶圆结构尺寸、膜层厚度、层间对准误差和表面形貌测量电子束关键尺寸量测设备主要面向先进逻辑和存储芯片，可用于光刻、刻蚀等工艺后的纳米乃至亚纳米级特征尺寸测量，以及纳米级缺陷复查和重点区域抽检X光量测设备利用 X 光的穿透性和无损检测特性，主要面向高深宽比刻蚀结构、特定金属成分及硅通孔铜填充空隙等内部结构测量。国盛证券科技传媒
